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  • 發布時間:2024-05-28 11:34 原文鏈接: 清洗機共享應用

    儀器名稱:清洗機
    儀器編號:11023084
    產地:中國
    生產廠家:中聯科利
    型號:CUC-XS004A-05-10-M-A
    出廠日期:200612
    購置日期:201111


    所屬單位:集成電路學院>微納加工平臺>清洗/濕法工藝
    放置地點:微電子所新所一層微納平臺
    固定電話:
    固定手機:
    固定email:
    聯系人:宗莉(010-62784044,13693600842,jtsgzhz@163.com)
    竇維治(010-62781090,13366273985,douwz@tsinghua.edu.cn)
    分類標簽:微納加工 集成電路 半導體工藝 清洗
    技術指標:

    多種清洗功能

    知名用戶:王喆垚(微電子所)、陳兢(北京大學)、何立平(中科院物理所)、嚴清峰(化學系)、許軍(微電子所)、尤政(精儀系) 朱榮(精儀系)、張志勇(北京大學)、金傳洪(浙江大學)
    技術團隊:

    設備工程師:曹秉軍

    工藝工程師:宗莉

    設備主管:劉朋

    工藝主管:伍曉明

    實驗室主任:吳華強

    功能特色:

    本清洗機可使用多種清洗液,具有溫度控制功能,清除硅片表面的微粒、有機物及無機物等雜質。還可以用來清除硅片表面的自然氧化層,去除硅片表面的光刻膠。本設備清洗的標準工藝是硫酸加過氧化氫加熱到120度清洗,可清洗硅片的尺寸是2英寸、3英寸、4英寸。本設備還可用重鉻酸鉀溶液清洗玻璃器皿。

    項目名稱計價單位費用類別價格備注
    清洗元/小時自主上機機時費350.0
    送樣清洗元/小時測試費350.0


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