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  • 像差的概念和相關術語

    像差(全稱色像差, aberration)是指實際光學系統中,由非近軸光線追跡所得的結果和近軸光線追跡所得的結果不一致,與高斯光學(一級近似理論或近軸光線)的理想狀況的偏差。像差主要分為球差、彗差、場曲、像散、畸變、色差以及波像差。......閱讀全文

    像差的概念和相關術語

    像差(全稱色像差, aberration)是指實際光學系統中,由非近軸光線追跡所得的結果和近軸光線追跡所得的結果不一致,與高斯光學(一級近似理論或近軸光線)的理想狀況的偏差。像差主要分為球差、彗差、場曲、像散、畸變、色差以及波像差。

    像差的概念和組成

    像差 (全稱色像差, aberration)是指實際光學系統中,由非近軸光線追跡所得的結果和近軸光線追跡所得的結果不一致,與高斯光學(一級近似理論或近軸光線)的理想狀況的偏差。像差主要分為球差、彗差、場曲、像散、畸變、色差以及波像差。

    高級像差的概念

    理想光學系統中,物像共軛面上的垂軸放大率為常數,所以像與物總是相似的。但在實際光學系統中,只有在近軸區域才有這樣的性質。一般情況下,一對共軛面上的放大率并不是常數,隨視場的增大而變化,即軸上物點與視場邊緣具有不同的放大率,物和像因此不再完全相似,這種像對物的變形像差我們稱為畸變。僅與物高三次方成正比

    熒光分析法熒光相關術語概念

    根據波茲曼 (Boltzmann)分布,分子在室溫時基本上處于 電子能級的基態。當吸收了紫外-可見光后,基態分子中的電子只能躍遷到激發單重態的各個不同振動-轉動能級,根據自旋禁阻選律, 不能直接躍遷到激發三重態的各個振動-轉動能級。處于激發態的分子是不穩定的,通常以輻射躍遷和無輻射躍遷等方式釋放多余

    CMMB術語概念

    78、什么是信源,什么是信道? 信源是需要傳輸的信息,CMMB的信源主要為音視頻及數據。信道是信息傳輸的通道,CMMB的傳輸采用的是無線廣播電視信道。 79、什么是調制? 對信號源的信息進行處理,使其變為適合于信道傳輸形式的過程。CMMB采用的是BPSK、QPSK、16QAM等調制方式。 80、什么

    像差的定義和主要分類

    像差一般分兩大類:色像差和單色像差。色像差簡稱色差,是由于透鏡材料的折射率是波長的函數,由此而產生的像差。它可分為位置色差和放大率色差兩種。單色像差是指即使在高度單色光時也會產生的像差,按產生的效果,又分成使像模糊和使像變形兩類。前一類有球面像差、彗形像差和像散。后一類有像場彎曲和畸變。實際工作中光

    標準篩的簡介和相關術語介紹

      簡介  標準篩主要用于各試驗室、化驗室、物品篩選、篩分、級配等檢驗部門對顆粒狀、粉狀物料的粒度結構、液體類固體物含量及雜物量的精確篩分、過濾、檢測,該系列檢驗篩具有噪音低、標準篩體,篩、濾樣品效率、精度高等優點,廣泛用于冶金、粉粒、化工、醫藥、建材、地質、國防等部門的科研生產、試驗室、質檢室。 

    內分泌的概念和相關概念

    內分泌 (internal secretion)是外分泌的對應詞,是由C·Bermard(1859)所命名,即機體組織所產生的物質不經導管而直接分泌于血液(體液)中的現象。包括4個概念:1)內分泌;2)內分泌系統;3)“內分泌紊亂”的簡稱;4)“內分泌系統疾病”的簡稱。1)內分泌是一生理學名詞;機體

    RNAi相關術語

    1.RNAi?:(RNA interference)RNA干擾一些小的雙鏈RNA可以高效、特異的阻斷體內特定基因表達,促使mRNA降解,誘使細胞表現出特定基因缺失的表型,稱為RNA干擾(RNA interference,RNAi?,也譯作RNA干預或者干涉)。它也是體內抵御外在感染的一種重要保護機制

    原子吸收光譜的概念和基本術語匯總

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    色差的定義和初級像差的種類

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    色譜術語保留體積的概念

    色譜用語,從進樣開始到某組分在柱后出現濃度極大值時流出溶劑的體積。又稱洗脫體積。VR=F×tR

    標準篩的相關術語

      篩序:標準套篩按篩孔尺寸從大到小的依次排列。  篩比:篩序中相鄰兩篩篩孔尺寸之比。  網目:標準篩篩孔尺寸大小的一種表示法, 一般指單位長度 (1in. 或1cm) 的篩孔數。  孔:習慣上指標準篩1cm[1]。

    滴定分析的相關術語

    標準滴定溶液在進行滴定分析過程中,已知準確濃度的試劑溶液稱為標準滴定溶液。滴定滴定時,將標準滴定溶液裝在滴定管中[因而又常稱為滴定劑],通過滴定管逐滴加入到盛有一定量被測物溶液[稱為被滴定劑]的錐形瓶(或燒杯)中進行測定,這一操作過程稱為“滴定”。化學計量點當加入的標準滴定溶液的量與被測物的量恰好符

    像差的分類

    像差一般分兩大類:色像差和單色像差。色像差簡稱色差,是由于透鏡材料的折射率是波長的函數,由此而產生的像差。它可分為位置色差和放大率色差兩種。單色像差是指即使在高度單色光時也會產生的像差,按產生的效果,又分成使像模糊和使像變形兩類。前一類有球面像差、彗形像差和像散。后一類有像場彎曲和畸變。

    像差的定義

    像差(全稱色像差, aberration)是指實際光學系統中,由非近軸光線追跡所得的結果和近軸光線追跡所得的結果不一致,與高斯光學(一級近似理論或近軸光線)的理想狀況的偏差。像差主要分為球差、彗差、場曲、像散、畸變、色差以及波像差。詞條對上述像差進行了詳細的介紹。

    PH計相關術語

    pH緩沖溶液pH緩沖溶液是一種能使pH值保持穩定的溶液。如果向這種溶液中加入少量的酸或堿,或者在溶液中的化學反應產生少量的酸或堿,以及將溶液適當稀釋,這個溶液的pH值基本上穩定不變,這種能對抗少量酸或堿或稀釋,而使pH值不易發生變化的溶液就稱為pH緩沖溶液。pH標準緩沖溶液具有以下特點:⑴標準溶液的

    雜交技術相關術語

    雄性不育系是一種雄性退化(主要是花粉退化)但雌蕊正常的母水稻,由于花粉無力生活,不能自花授粉結實,只有依靠外來花粉才能受精結實。因此,借助這種母水稻作為遺傳工具,通過人工輔助授粉的辦法,就能大量生產雜交種子。保持系是一種正常的水稻品種,它的特殊功能是用它的花粉授給不育系后,所產生后代,仍然是雄性不育

    電光效應的定義和相關概念

    電光效應是指在電場的作用下,晶體的介電常數,即其折射率發生改變的效應。假設極化強度P與所加電場有線性關系,但這是一級近似。事實上電場與材料的介電常量,對于光頻場,也就是材料折射率n,有此關系:n=n0+aE0+bE02+···。式中:n0是沒有加電場E0時介質的折射率;a、b是常數。這種由于外加電場

    基因疫苗的種類和相關概念

    凡具有抗原性接種于機體可產生特異的自動免疫力,可抵御感染病的發生或流行,總稱為疫苗。既往把以細菌制備的制劑稱為“菌苗”;而把病毒及立克次氏體制備的制劑稱為“疫苗”;以細菌代謝產物——毒素制備的制劑稱為“類毒素”。隨著現代科學技術的發展,有效抗原的純化和提取,基因重組抗原甚至日后將可能發展的人工合成抗

    電磁透鏡的像差球差的相關介紹

      按照衍射理論計算結果,光學透鏡的分辨率是波長的一半。對于電磁透鏡來說,目前還遠遠沒有達到這一水平。主要原因是除了衍射效應對分辨率的影響外,還有像差對分辨率的影響。電磁透鏡的主要像差有球差、像散和色差。  球差  球差是由電磁透鏡近軸區域磁場和遠軸區域磁場對電子束的折射能力不同而產生的像差。近軸區

    Elisa技術原理和相關概念

    一、免疫分析技術基本原理運用抗原、抗體之間的特異性結合來測定、分析特定物質的方法抗原:可誘導動物免疫系統發作免疫應對的物質。1.elisa試劑盒按其引起免疫應對的才干分半抗原、抗原、超抗原。 抗體:由動物免疫系統發作,可特異性結合某種物質的免疫球蛋白。分IgG、 IgM、 IgE、 IgA、

    生物學術語C值的概念

    C值是指真核生物細胞中,單倍細胞核(受精卵或二倍體體細胞中的一半量)里所擁有的DNA含量

    關于馬弗爐的相關術語解釋

      (1) 過程變量。在過程控制中,過程變量是指需要控制或檢測的物理量,如溫度控制中的溫度、壓力控制中的壓力、流量控制中的流量等都屬于過程變量。  (2) 硅鉬棒。硅鉬棒阻性電熱元件,以二硅化鉬為基礎制成,耐高溫、抗氧化的。在高溫氧化性氣氛下使用時,表面生成一層光亮致密的石英玻璃膜,能夠保護硅鉬棒內

    粉塵相關常見術語的含義

    爆炸下限 g/m3可燃蒸氣、氣體或粉塵與空氣組成的混合物遇火源即能發生爆炸的最低濃度(可燃蒸氣、氣體的濃度,按體積比計算)。最小點火能 mJ最小點火能是指能夠引起粉塵云(或可燃氣體與空氣混合物)燃燒(或爆炸)的最小火花能量。亦稱為最小火花引燃能或者臨界點火能。粉塵云引燃溫度 ℃粉塵云引燃溫度是指引起

    波像差的定義

    從物點發出的波面經理想光學系統后 ,其出射波面應該是球面。但實際光學系統存在像差,實際波面與理想面就有了偏差。當實際波面與理想波面在出瞳處相切時,兩波面間的光程差就是波像差。

    液相色譜法術語概念載體

    載體( support)負載固定液的惰性固體物質。

    液相色譜法術語概念基體

    基體( matrix)負載親和配位體或其他活性基團的固體物質。

    液相色譜法術語概念脫氣

    脫氣( degassing)除去流動相中溶解的氣體的操作。

    液相色譜法術語概念過載

    過載( overloading)進樣量超出柱容量時,產生不對稱峰形的現象。此時溶質在填料上的吸附為非線性吸附,在大多數情況下,隨進樣量增加,溶質的保留時間減小。

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